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IKN高剪切分散乳化均质设备的应用
2012-05-08 11:47:03 来源:殷均质– 分散
分散是一相(液体、固体、气体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程。当外部能量输入时,两种物料重组成为均一相。当其中一种或者多种材料的细度达到微米数量级时,体系可被认为胶状,我们将它分为三种:悬浮液(固/液),乳液(液体/液体)和泡沫(气体/液体)。
相比于传统的混合分散方法,高剪切乳化分散机能输入更大的能量。
下面是IKN高剪切乳化分散机的应用:
霜类,膏类和洗剂类:
霜类,膏类和洗剂类包括很多种类的产品,但是加工方式却很相似。工艺中一般都会包含增粘剂,色素,香料和活性剂与油相或水相的分散和亲和作用。然后,油相和水相乳化、冷却并包装成品。对于生产厂商来讲,粉体与水怎样才能进行*大程度上的亲和(通常很难分散),并产生乳化作用,保持乳液的稳定性,是其中一项较大的挑战。使用IKN的乳化分散机,就可以帮您解决这些问题。
霜类、膏类和洗剂类
香料、防腐剂、香精、牙膏
果汁、浓缩液、果肉和饮料
墨水和油漆
浓缩味素
调味料、调味汁
软干酪
果酱
涂层
种子和芥末
悬浮– 湿磨(固体-液体)
悬浮是指将固体颗粒分散到液体中。在分散过程中,往往需要减小固体颗粒,这就是湿磨。用高剪切乳化机输入大量能量,可实现我们的目的。以下是一些典型应用,IKN混合分散机在这些应用中提供了*好的方案:
炭黑 水晶
二氧化钛 催化剂
种子 硫磺
磨光剂 灰浆
粘土 金属氧化物
石墨
使用EDC高能分散机或EDL剪切泵,可以在线方式制成悬浮液,用ER来实现批次式或在线式流程。湿磨的应用广泛,但与悬浮相比,它需要更高的能量输入。为实现高能量输入,IKN为您提供了EDL2000单级高剪切乳化机, ER2000多级高剪切乳化机,ERS2000超高速乳化机,CM2000胶体磨和CMO2000锥体磨。
乳化(液体-液体)
乳化是将两种互不相容的液体均匀分散的过程,如水包油乳液。悬浮液中固体颗粒之所以没有沉淀,是因为颗粒尺寸小于1微米。如要制成稳定的乳液,需要输入能量以减小液滴尺寸。以下是常见乳液的举例:
人造黄油 石蜡
冰淇淋 化妆品
蛋白质提取 矿物油
膏霜类和洗剂 杀虫剂和除草剂
色拉酱和调味酱 上光蜡
微胶囊
很多乳液可以通过使用合适的机器很容易的实现,如使用在线式高能量分散机或剪切泵,间歇式EDC。当液滴要求小于10微米或要求在亚微米范围时,我们需要更高的能量输入来使粒径达到要求范围。如果浓度较高,IKN为您提供如下的设备:EDL2000单级高剪切乳化分散机,ER2000三级高剪切乳化分散机,ERS2000超高速乳化分散机,CM2000胶体磨。 EDC系列可用于间歇式加工。
溶解– 分子/胶质
以下是典型的溶解方面的应用,IKN可以提供*好的解决方案:
染料
结晶粉
粘合剂
人造橡胶
触変剂
多数溶解过程都可使用如下的机器,如在线式高能量分散机或剪切泵,间歇式乳化机。
较难溶解的材料需选用高能量输入的机器。另外,为了增加能量输入、减少循环时间,IKN还提供EDL2000,ER2000,ERS2000,CM2000等在线机器。
粉体-液体 混合
将粉体与液体混合,是非常具有挑战性的工作。粉体较难被湿化,如果分散不好,会产生鱼眼。通常情
况下,粉体都是从顶部倾倒入罐体,产生大量飞扬粉尘,具有潜在的健康危害。喷射器、搅拌机等其他辅助
设备也会因此而降低功效,甚至使阻塞情况更加严重,同时还加大了清洗难度。IKN开发出全新的技术解决
方案,可以取代过时工艺。与其他混合机厂商相比,IKN可以提供成套粉体/液体生产线。以下是一些常见
的典型应用,IKN混合机为您提供*好的解决方案。
淀粉
气相二氧化硅
奶粉
糖
纤维素
卡波姆二氧化硅
卡波姆
卡波姆®(卡波姆®是Noveon公司的注册商标)作为*常用的碳水化合物之一,是化妆品的一种成分,用于
化妆品的增粘、悬浮、稳定和乳化。卡波姆®密度很低,易产生飞扬粉尘,如果没有给它高能量的搅拌,就很
容易漂浮在液体表面。溶解在液体中,它又比较容易结块或产生鱼眼。产品的粘度对pH值十分敏感。因此,需要
加入pH调节剂(高pH物质),来调节成品粘度。IKN公司提供一系列的高剪切分散机,为化妆品厂家提供解决
方案。
IKN高剪切乳化机用于水性卡波姆加工的优点:
1. 更容易与液体混合。IKN提供多样化的设计,批次或在线加工方式,适合卡波姆分散。PLD和PLC粉液混合
机可以将粉体直接加入到液体系统,去除粉尘或空气。
2. 产品均一。IKN的高剪切乳化机的定/转子结构可以保证*终产品无结块。
3. 减少人员使用。IKN工业设备与其他厂商设备不同的是,不会对成分非常敏感。IKN也可以为客户提供
粉体喂料的成套解决方案,由控制柜统一控制。
4. 减少原材料用量。结块现象的消除,可以省去过滤工序,减少粉体浪费。同时,IKN定转子分散机保证
粉体完全湿化,精确调节pH值,避免再使用碱液调节。
适合水化卡波姆工艺的IKN混合机:
批次式:MK,EDC,EDS,EDE
在线式:EDL,ER,ERS,CM,PLD,PLC
黄原胶
色素
胶质
粘土
当以批次方式加入粉体时,MK搅拌机很快将固体溶解和分散在容器中,如果需要更高的能量输入,我们
建议使用EDC分散机。若采用循环式工艺,PLD水粉混合机能够迅速地将物料湿化并且分散。PLD 也可以用于
连续系统,并且处理大量的物料。IKN专利产品PLC水粉混合机是连续水粉混合工艺的*佳选择,特别是空气量
要求*小化,需要固定的喂料速率,或者高粘度液体的场合。PLC可以选配多种混合分散头,能够输入足够的
能量,一次性处理*难加工的物料。PLD是行业内唯一不需要真空吸料的机器,因此,该设计的另一个目的便
是减少空气的介入。
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