- 碳纳米管分散机
详细信息
品牌:IKN 类型:剪切分散机 物料类型:固-液 适用物料:化学品 应用领域:化工 型号:CMSD2000 速度类别:单速 调速范围:21000 r/min 分散轮直径:115 mm 升降行程:100 mm 电机功率:22 Kw 变速方式:变速带变速 罐容量:100 L 外形尺寸:1-1-1 mm 整机重量:400 kg
碳纳米管浆料由多壁碳纳米管、碳纳米管分散剂、液体介质等三种成分组成,经过特定的机械研磨设备和分散工艺,规模化地生产。
我们供货的浆料,是以工业级多壁碳纳米管TNIM8为原料,液体介质包括:水、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、异丙醇(IPA)、乙酸丁酯.
一、碳纳米管分散技术三要素
二、分散剂用量推荐
三、碳纳米管水分散剂(TNWDIS)概述
四、超声波分散设备使用建议及分散实例
五、研磨分散设备使用建议
碳纳米管分散技术三要素:分散介质、分散剂和分散设备
1、分散介质
(1)根据粘度不同,分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中,如水和有机溶剂,碳纳米管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等,高粘度介质如熔融态的塑料
(2)本PPT文件介绍的碳纳米管分散技术,针对中、低粘度分散介质
2、分散剂
(1)分散剂的选择,与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关
(2)分散剂的用量,与碳纳米管比表面积和共价键修饰的功能基团有关
(3)水性介质中,推荐使用TNWDIS。强极性有机溶剂中,如醇、DMF、NMP, 推荐使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶,推荐使用TNEDIS
3、分散设备
(1)超声波分散设备:非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管,用于中、高粘度介质时会受到限制
(2)研磨分散设备:适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管
(3)采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法,可以高效、稳定地分散碳纳米管
分散剂用量推荐
1、碳纳米管比表面积与分散剂用量
我们试剂级碳纳米管分为单壁管(外径<2nm)和多壁管。多壁管根据外径不同,分为TNM1(外径<8nm)、 TNM2 (外径8-15nm)、 TNM3 (外径10-20nm)、 TNM5 (外径20-30nm)、 TNM7 (外径30-50nm)、 TNM8 (外径>50nm)。随着外径的增加,碳纳米管的比表面积减小
碳纳米管分散机 ,纳米管分散机 .碳管分散机由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出***终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
研磨分散机
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
3000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
8000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
20000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
40000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
80000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到***大允许量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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