• 纳米分散设备,高速纳米分散设备

    详细信息

     品牌:IKN  类型:剪切分散机  物料类型:固-液  
     适用物料:化学品  应用领域:化工  型号:CMSD2000  
     速度类别:有级变速  调速范围:21000 r/min 分散轮直径:115 mm 
     升降行程:100 mm 电机功率:15 Kw 变速方式:变速带变速  
     罐容量:10000 L 外形尺寸:1-1-1 mm 整机重量:400 kg 
    纳米分散设备,高速纳米分散设备,德国纳米分散设备,IKN高速纳米分散设备是包括分散机、过滤泵、纳米砂磨机、*放料阀、第二放料阀、第三放料阀以及物料管路,所述的分散机包括乳化装置、搅拌装置以及釜体,所述的分散机通过物料管路以及*放料阀与过滤泵连接,所述的过滤泵通过物料管路以及第二放料阀与纳米砂磨机连接,所述的纳米砂磨机通过物料管路以及第三放料阀与分散机连接。上述纳米材料分散设备,利用普通分散机的强大剪切力实现纳米材料在树脂中的初步分散至微米级,然后再通过普通纳米砂磨机循环研磨物料,将物料进一步研磨至纳米级别,效率高、效果好;并且中位粒径降低至一百纳米的级别,可充分发挥纳米材料固有的特性,大幅提高了纳米材料产品使用时的力学强度等各种性能

    纳米分散设备,高速纳米分散设备,德国纳米分散设备,IKN高速纳米分散设备是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。


    粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹,近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是,在某一能量水平上, 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。
    IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果
     
    为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。
     
     
    IKN研磨机国内研磨机比较:
    转速和剪切力:
    国内研磨机3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
    线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
    作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
    IKN研磨机9000/14000RPM通过皮带加速
    线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
    作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
    这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是前者的4-5倍
    设备设计构造:
    国内研磨机,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要*的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
    IKN研磨机,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。
    密封:
    国内研磨机,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
    IKN研磨机,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至*低,可24小时不停运转,特殊德国PDFE轴封,可以运行10000小时,可选择德国高品质机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以*大承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口*大压力可以达到12-13 bar .
    产品效果:
    国内研磨机,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀
    IKN高剪切研磨机 可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米级分散乳化粉碎
     

    研磨分散机

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    80000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。


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