| | 品牌：IKN | | 类型：剪切分散机 | | 物料类型：固-液 | |
| | 适用物料：化学品 | | 应用领域：化工 | | 型号：ERS2000 | |
| | 速度类别：有级变速 | | 调速范围：15000 r/min | | 分散轮直径：115 mm | |
| | 升降行程：100 mm | | 电机功率：15 Kw | | 变速方式：变速带变速 | |
| | 罐容量：3000 L | | 外形尺寸：1-1-1 mm | | 整机重量：400 kg | |
ITO纳米高速分散机 ,ITO纳米分散机,氧化铟纳米分散机 氧化锡纳米分散机是的高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是*重要的。根据一些行业特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基础上又开发出ERS3000超高速分散机。其剪切速率可以超过100.00 rpm，转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强粒经分布更窄。由于能量密度极高,无需其他辅助分散设备。
ITO粉末为氧化铟和氧化锡的混合物，是一种新型的特殊功能陶瓷材料，通常是用电子束蒸发、物理气相沉积、或者一些溅射沉积技术的方法沉积到表面，具有对可见光透明和导电的良好特性。
在分散或研磨纳米粉体的浆料时，若不添加适当的表面改质剂，单靠研磨机的机械力量来做分散研磨，一般只能分散研磨到300 ~ 800 nm就无法再降低粒径了，其原因是当粒径小于300 nm时，粉体的比表面积急速上升且范德华力效应加剧，此时粉体处于非常不稳定且容易再凝聚的状态，即使聚集的粉体被磨球打开来了，也容易再凝聚，除非添加适当的表面改质剂，才可能继续把粒径下降到一次粒径的大小。
◆化学界面改质剂的设计
一般处理浆料表面的方法，由复杂交互的作用力，如静电排斥力、立体排斥力及体积排除作用力等力形成固体或液体表面的稳定状态，其目的不外乎是避免粉体再凝聚的产生，其中*简单的方法是调整PH值，使纳米粉体表面带电荷，粉体与粉体间产生排斥力，然而，纳米粉体因受限于*终产品应用及配方的限制，适用此方法的应用并不多；第二种常用的方法是依靠立体排斥作用力形成固体与固体，固体与液体间的稳定状态，此方法*常选用高分子量的高分子或单体作分散剂，当浆料的粒径要求为微米或亚纳米时，此方法效果相当好；但是分散或研磨浆料的粒径要求小于100 nm时，如果仍选用高分子量的高分子或单体作为分散剂，当粉体被纳米化时，浆料内的大部分体积已被高分子量的高分子或单体所形成的障碍物所占据，此时浆料容易遇到下列的问题：
● 固成分大幅降低，一般为35 % wt以下。
● 浆料的粘度因而提高，不利于研磨机内小磨球的运动，导致*后的粒径细度降不下来。
● 粉体容易产生再凝聚的现象，导致纳米现象无法产生，为了避免上述问题的产生，本文所介绍的化学机械工艺法，将选用较低分子量的功能剂来当表面改质剂。根据溶液化学的概念，较小分子量的化学键所形成的功能剂，会比较容易被接到纳米粉体的表面上，（如图4范例所示），所选用的界面改质剂是低分子量的，且包含有机酸官能团。
原则上，所选用的界面改质剂同时具有两个官能团：一个官能团被设计接到纳米粉体表面，使纳米粉体表面产生一个稳定相，以避免粉体再凝聚的产生；另一个官能团的设计，要根据纳米粉体所添加的界面（Matrix）而定，以避免不兼容现象的发生。因为界面改质工艺所采用的工具为湿法分散纳米研磨设备，所以选用的界面改质剂必须能够与使用的溶剂兼容。尽管所选用的界面改质剂的分子量很小，但仍可在纳米粒子表面产生2 ~ 5 nm厚度的薄膜，足够产生一个立体障碍并支撑纳米粒子的稳定性，相信根据这些原理量身打造的界面改质剂，可以满足下列要求：
● 固体成分可以大大提高到35 ~ 45%以上。
● 粒径可以降到粉体一次粒径大小（例如10 nm左右）。
● 浆料的粘滞性不再受粒子粒径下降的影响而急速上升。
● 粉体将不易产生再凝聚现象，即使添加到后段工艺仍为纳米粒子。
ITO纳米高速分散机 ,ITO纳米分散机,氧化铟纳米分散机 氧化锡纳米分散机
KN管线式高剪切乳化机（分散机、均质机）与卧式乳化机比较：
转速和剪切力：
国内乳化机，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切乳化机，9000/14000RPM通过皮带加速
线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是乳化和均质的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造：
国内乳化机，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要*的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN高剪切乳化机，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。
密封：
国内乳化机，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
IKN高剪切乳化机，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至*低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以*大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口*大压力可以达到12-13 bar .
产品效果：
国内乳化机，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀
IKN高剪切乳化机，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化
当用我们的设备好处是什么？效果好（研磨效果、均质效果、分散效果、乳化效果……），速度快，效率高。每一台设备都具有多功能改装，根据不同的要求更换不同的模块。还有什么？？？那就是能耗低，据用过依肯的设备客户反应，就电费就能省下不少。如何去选择一台合适的设备，一定会做一个明智的选择！
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