纳米胶体磨,纳米高速胶体磨,德国纳米胶体磨

纳米胶体磨,纳米高速胶体磨,德国纳米胶体磨,纳米材料高速胶体磨,14000转纳米高速胶体磨,纳米胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

纳米研磨是颗粒细化到纳米级后，其表面积累了大量的正、负电荷，纳米颗粒的形状极不规则，这样造成了电荷的聚集。纳米颗粒表面原子比例随着纳米粒径的降低而迅速增加，当降至1nm时，表面原子比例高达90%，原子几乎全部集中到颗粒表面，处于高度活化状态，导致表面原子配位数不足和高表面能。纳米颗粒具有很高的化学活性，表现出强烈的表面效应，很容易发生聚集而达到稳定状态，从而团聚发生
众所周知纳米氧化物极易产生自身的团聚，使得应有的性能难以充分发挥。此外，纳米氧化物的诸多奇异性能能否得到充分发挥，还取决于***大限度降低粉体与介质间的表面张力。因此，纳米氧化物粉体必须均匀分散，充分打开其团聚体，才能发挥其应有的奇异性能。 

纳米研磨效果影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

2 胶体磨磨头头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素： 
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60


粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹，近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是，在某一能量水平上， 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。
IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果
 
为了达到巨大的能量输入，IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下，我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露？主轴会不会偏振的很厉害，定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点，也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。


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IKN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较：
一、转速和剪切速率：IKN纳米胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：IKN纳米胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
三、机械密封：IKN纳米胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至***低，可24小时不停运转国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

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定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。


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