• 阿司匹林混悬液胶体磨

    详细信息

     型号:CM2000  品牌:IKN  工作方式:颗粒研磨机  
     适用物料:阿司匹林  应用领域:医药  加工批量:1000  
     驱动功率:11 kw 研磨篮容量:1000  介质尺寸:100  
     行程:10  外形尺寸:1-1-1 m 重量:300 kg 
     驱动方式:电动  作用对象:锯刀   
    阿司匹林混悬液胶体磨,医药超高速胶体磨,德国胶体磨,IKN超高速胶体磨,阿司匹林混悬液胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

    阿司匹林是一种历史悠久的解热镇痛药。由于口服后易吸收,在全身组织分布广,作用强,阿司匹林在临床上被广泛用于发热、头痛、神经痛、肌肉痛、风湿热、急性风湿性关节炎等的治疗。随着阿司匹林的广泛应用,其不良反应也逐渐增多,因此,在使用阿司匹林治疗各种疾病的时,要严密监视其不良反应。

    混悬剂(suspensions)系指难溶性固体药物以微粒状态分散于分散介质中形成的非均匀的液体制剂。混悬剂中药物微粒一般在0.5~10μm之间,小者可为0.1μm,大者可达50μm 或更大。混悬剂属于热力学不稳定的粗分散体系,所用分散介质大多数为水,也可用植物油。

     

     混悬剂中的微粒由于受重力作用,静置后会自然沉降,其沉降速度服从Stokes定律:

      按Stokes定律要求,混悬剂中微粒浓度应在2%以下。但实际上常用的混悬剂浓度均在2%以上。此外,在沉降过程中微粒电荷的相互排斥作用,阻碍了微粒沉降,故实际沉降速度要比计算得出的速度小得多。由Stokes定律可见,混悬微粒沉降速度与微粒半径平方、微粒与分散介质密度差成正比,与分散介质的粘度成反比。混悬微粒沉降速度愈大,混悬剂的动力学稳定性就愈小。

      为了使微粒沉降速度减小,增加混悬剂的稳定性,可采用以下措施:①尽可能减小微粒半径,采用适当方法将药物粉碎得愈细愈好。这是*有效的一种方法。②加入高分子助悬剂,既增加了分散介质的粘度,又减少微粒与分散介质之间的密度差,同时助悬剂被吸附于微粒的表面,形成保护膜,增加微粒的亲水性。③混悬剂中加入低分子助悬剂如糖浆、甘油等,减少微粒与分散介质之间的密度差,同时也增加混悬剂的粘度。这些措施可使混悬微粒沉降速度大为降低,有效地增加了混悬剂的稳定性。但混悬剂中的微粒*终总是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,细小微粒沉降速度较慢,更细小的微粒由于布朗运动,可长时间混悬在介质中。 

    阿司匹林混悬液胶体磨的分虽效果

     

    影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

     

    2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

    3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

    4  物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

    5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

     

    线速度的计算

    剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                  g 定-转子 间距 (m)

    由上可知,剪切速率取决于以下因素:

    转子的线速率

    在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
    IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

     

    速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

     

     

    阿司匹林混悬液胶体磨

    根据一些行业的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

           超高速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

           CMS2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

         三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,*小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

     

    胶体磨选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

    高速胶体磨

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMS 2000/4

    700

    14000

    40

    4

    DN25/DN15

    CMS 2000/5

    4,000

    10,500

    40

    11

    DN40/DN32

    CMS 2000/10

    10,000

    7,300

    40

    22

    DN50/DN50

    CMS 2000/20

    30,000

    4,900

    40

    45

    DN80/DN65

    CMS 2000/30

    60,000

    2,850

    40

    75

    DN150/DN125

    CMS 2000/50

    100,000

    2,000

    40

    160

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。

     

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