• 纳米研磨机,纳米研磨设备

    详细信息

     型号:CMSD2000  品牌:IKN  工作方式:颗粒研磨机  
     适用物料:化工,医药  应用领域:化工  加工批量:1000  
     驱动功率:30 kw 研磨篮容量:1000  介质尺寸:100  
     行程:10  外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 
     驱动方式:电动  作用对象:锯刀   
    纳米研磨机,,纳米研磨设备,超高速研磨机,纳米材料研磨设备,IKN研磨机 CMD2000纳米研磨机是

    14000转研磨机  是是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    纳米研磨机

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

    CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     

    研磨分散机应用领域:

    化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,,炭黑,石墨烯,碳纳米管,富勒烯,凝胶,溶胶,压裂液 催化剂 纤维  等。 
    食品工业:芦荟、菠萝、芝麻、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麦乳精、香精、各种饮料 花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱,蛋黄酱,沙拉酱,奶酪 食用菌丝,大豆 豆粕等

    日用化工:牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高级化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
    医药工业:各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮,胶囊,微球,口服混悬液,动物组织破壁,纤维素 等。 
    建筑工业:各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
    其它工业:塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业优质环保的生产需要 。

    新能源材料:石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超级电容、石墨烯润滑油、  碳纳米管 、碳纤维、   锂电池浆料、电池隔膜 润滑油等等

     

    设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
    电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
    电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    电机选配件: PTC 热保护、降噪型
    研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
    研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
    研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
    进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
    研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

    研磨分散机

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

    纳米研磨机的眼膜效果 

    影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

     

    2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

    3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

    4  物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

    5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

     

    线速度的计算

    剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

    剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                                g 定-转子 间距 (m)

    由上可知,剪切速率取决于以下因素:

    转子的线速率

    在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
    IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 


     
        研磨时间对粉体产品细度的影响一般而言,研磨时间越长,则研磨效果越好,
    但颗粒的细化达到一定程度则很难再进一步细化。因为随着颗粒粒度的减小,比表面积迅速增大,颗粒表面激活点增多,表面自由能增大,体系处于极不稳定状态,微细颗粒间则彼此团聚形成“假颗粒”,以降低比表面积;若再延长研磨时间,输入体系的能量则用于粉碎“假颗粒”,“假颗粒”粉碎后又很快重新团聚,整个体系处于团聚—磨细的动态平衡中,从而大大降低了研磨能力和效率。
     
    分散剂对粉体产品细度的影响
    在超细研磨过程中,一方面物料颗粒接受施能被粉碎,另一方面被磨细颗粒因表面能增大又极易
    团聚在一起,形成“假颗粒”,“假颗粒”被粉碎后又团聚。因此在研磨进行到一定程度时,过程已处于团聚—磨细的动态平衡中,研磨效率大大降低。分散剂是湿法超细研磨中的重要调节因素。对于超细磨,添加一定量的分散剂以后,因与物料间的吸附作用,改变了颗粒间的相互依从状态,使细颗粒物料保持分散状态,分散剂并能吸附在物料表面降低表面能,改善浆料的流变性,使研磨效率提高。
     

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