• 陶瓷胶体磨,陶瓷高速胶体磨

    详细信息

     型号:CMC2000  品牌:IKN  工作方式:颗粒研磨机  
     适用物料:食品,医药,化工  应用领域:食品,医药,化工  加工批量:1000  
     驱动功率:30 kw 研磨篮容量:1000  介质尺寸:100  
     行程:100  外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 
     驱动方式:电动  作用对象:锯刀   
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      针对对金属污染要求特别高的企业,以及精细化工或者医药行业,上海依肯机械设备有限公司另外一项独特的设备创新,就是CMC2000系列陶瓷胶体磨,它的设计使其功能在原有的CM2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项CMC2000系列陶瓷胶体磨能够湿磨和研磨, 通过皮带传动,转速9000rpm,是普通胶体磨的3-4倍。产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。高速陶瓷胶体磨的研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。 

       陶瓷胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力加压产生向下的螺旋冲击力,透过陶瓷胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

        陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子和二组陶瓷定子组成,在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转,使陶瓷转子甩出,紧贴陶瓷定子,产生强劲的动能能高效、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中,通常物料中的各个相是互不相溶的。陶瓷胶体磨使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用,使物料经过研磨后细度大大提高,再通过适量的添加剂共同作用,使产品快速、均匀、分散、乳化、研磨,避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点,效能比原来有胶体磨提高3倍以上,陶瓷胶体磨特别是对金属污染要求特别高的企业,如电子和电池行业,可以达到更高品质产品。

       

      陶瓷胶体磨应用领域:

    电子电池:锂电池正极浆料、锂电池负极浆料、电路板基材浆料

    纳米材料:超细碳酸钙、白炭黑等纳米材料解聚、纳米粉体应用固-液分散

    精细化工:热熔胶、密封胶、胶水、絮凝剂、表面活性剂

    陶瓷胶体磨

    流量

    输出

    线速度

    功率

    入口/输出连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

     CMC 2000/4

    50

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

     CMC 2000/5

    200

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

     CMC 2000/10

    500

    4,200

    23

    22

    DN50/DN50

     CMC 2000/20

    1500

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

     CMC 2000/30

    3000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

     CMC 2000/50

    6000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到*大允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。

    3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

    4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。

    5  本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

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