口服混悬液用设备

口服混悬液用什么设备？

 

目前国内市场上大多数的胶体磨机厂家生产出来的乳化机转速只能达到3000rpm左右，*大的三级  当然我所说的都                                   

国内胶体磨的结构大都都是直连电机，胶体磨的主轴和电机直连，电机就决定了主轴的转速。而进口胶体磨机采用分体式结构，通过皮带进行变速，国产设备由于结构的设计缺失、机械密封技术的不足的原因，以及改进后成本大幅度的提高问题，一直无法实现高速胶体磨机的自主研发和生产。

口服混悬液一般的国内做法是采用 3000转的胶体磨，由于 转速较低，磨的效果不好，从而无法发挥材料的性能。造成这种情况的主要原因：

1、尚未对分散的作用有正确的认识．许多生产商并未意识到分散的重要性

2、 不知道对*终产品的品质如何评价

IKN工程师建议处理口服混悬液采用9000转或者14000转的胶体磨。

IKN高剪切胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，同等情况下，剪切力越高，处理的悬浮液也就越细微均匀，稳定性也就越好。  

影响研磨效果因素：

   1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头头的剪切速率

   3  磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 

• 研磨速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
                g 定-转子 间距 (m)

由上可知，研磨速率取决于以下因素： 

• 磨头的线速率
• 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

口服混悬液用什么设备？

胶体磨CM2000三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到4-5倍以上,*大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果胶体磨CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究研发出来的一款适合处理混悬液的产品，该机的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。     李佩佩胶体磨CM2000结构机理：由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用优质不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是向外延伸一级，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分：硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理，增强刀齿的硬度，起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、无死角、处理量大、均质细化效果好。

胶体磨CM2000系列的特点：

①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。

③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。CM2000系列设备选型表：

 CM2000胶体磨为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到*低，保证机器连续24小时不停机运行。

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