原料药湿法粉碎机

原料药湿法粉碎机，又被成为原料药胶磨机，或者原料药研磨分散机，特别适合于需要研磨、分散、均质一步到位的物料。IKN湿法粉碎机是将三级高剪切均质乳化机进行改装，将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头间隙可调。

原料药湿法粉碎机，为医药卫生级湿法研磨设备，标准配置所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢。     特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷。    李佩佩

原料药湿法粉碎机是由胶磨机,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下浅的齿列结构，相较沟槽是直线，同级的沟槽深度一样的磨头，可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。分散头的转子定子结构符合流体力学的线性结构。在转动时流体是切线方向甩开。

CMD2000系列研磨分散机的特点：

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMD2000系列设备选型表

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度，稠度和*终产品的要求。

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.