头孢地嗪钠混悬液胶体磨，头孢地嗪钠，混悬液胶体磨胶体磨
详细信息
| | 品牌：IKN | | 型号：CMD2000 | | 工作方式：颗粒研磨机 | |
| | 类型：转轴式研磨机 | | 适用物料：乳化液，悬浮液 | | 应用领域：医药，化工，食品 | |
| | 加工批量：100 | | 驱动功率：2.2 kw | | 研磨篮容量：2 L | |
| | 介质尺寸：0.2 mm | | 行程：2000 mm | | 外形尺寸：500*230 m | |
| | 重量：230 | | | | | |
头孢地嗪钠混悬液胶体磨，头孢地嗪钠，混悬液胶体磨胶体磨是使物料被有效地乳化、分散和粉碎上海依肯机械设备
头孢地嗪钠为半合成第三代头孢霉素，对革兰阳性菌、阴性菌均有抗菌活性，对β内酰胺酶稳定，对头孢菌素酶和青霉素酶极稳定。临床主要用于链球菌属、肺炎球菌等敏感菌所致的肺炎、支气管炎、咽喉炎、扁桃体炎、肾盂肾炎、尿路感染、淋菌性尿道炎、胆囊炎、胆管炎、妇科感染、败血症及中耳炎等。
头孢地嗪钠混悬液胶体磨的粉碎效果
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
1 胶体磨磨头头的剪切速率 （越大，效果越好）
2 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
3 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
4 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
头孢头孢地嗪钠混悬
| 磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
| 类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
| CMD 2000/4 |
300 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
| CMD 2000/5 |
3000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
| CMD 2000/10 |
8000 |
4,200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
| CMD 2000/20 |
20000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
| CMD 2000/30 |
40000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
| CMD2000/50 |
120000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和*终产品的要求。
头孢混悬液胶体磨的特点
· 结合优良的研磨效果的高吞吐量
· 定制不同的研磨刀头，实现多种研磨剪切速率
· 为减少颗粒大小的控制，可无限调整定子/转子之间的间隙设置
· IKN胶体磨CM与生产系统的密实度作为机器联机设计的结果。
· 适合于粘度高达50,000 mPas的各种粘度范围的物料
· 能在高达16 bar的压力下操作
· 容易扩大规模生产，从实验室机器CM开发到生产机器CM
· 所有接触液体的部件为316L或316Ti不锈钢
· 具有耐磨材料的高性能机械密封密封
· 高质量的表面处理，便于清洗
· 可根据要求提供其他材料和表面处理
· 机器可自动排水， 具有CIP和SIP功能
· 噪音低
· 根据符合EHEDG（欧洲卫生工程设计集团）准则制造
· 符合3A卫生和认证
头孢混悬液胶体磨上海依肯机械设备
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