• 无机盐研磨分散机,高剪切研磨分散机

    详细信息

     品牌:IKN  型号:CMD2000  工作方式:颗粒研磨机  
     类型:转轴式研磨机  适用物料:乳化液,悬浮液  应用领域:医药,食品  
     加工批量:100  驱动功率:2.2 kw 研磨篮容量:2 L 
     介质尺寸:0.2 mm 行程:2000 mm 外形尺寸:500*230 m 
     重量:230    
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    无机盐研磨分散机,高剪切研磨分散机,研磨分散机:钡盐溶液通常用于食品和医药添加剂,要求细度在10μm作用,自然界中的钡盐颗粒一般较大,经过机器设备研磨和分散以后,一般无机盐颗粒保持在20μm左右,普通砂磨机和研磨机都无法做到更细。为了将这种无机盐颗粒研磨至10微米左右并进行有效的分散,需要用到高剪切研磨分散机CMD2000系列。将初始颗粒20μm的无机盐溶液导入研磨分散机,研磨十五分钟左右,进行检测,D99<10μm,D80<5μm。

    无机盐研磨分散机,高剪切研磨分散机,研磨分散机CMD2000系列特点:
    IKN研磨分散机是上海机械设备公司和德国IKN工程师合作研发的一款高科技产品,由胶体磨、分散机组合而成;是一款将研磨和分散两种功能结合的完美的流体设备。
    1.线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力非常强烈,通常所说的超细湿磨
    2.定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
    3.定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
    4.在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
    5.高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
    6.具体设备咨询:   朱经理 021-33506885-809 
     
    CMD2000系列无机盐研磨分散机,高剪切研磨分散机,研磨分散机的结构:*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。,公司有样机提供实验。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

    研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
    CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求,三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,*小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
    胶体磨 流量* 输出 线速度 功率 入口/出口连接
    类型 l/h rpm m/s kW  
    CM 2000/4 700 9,000 23 2.2 DN25/DN15
    CM 2000/5 3,000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
    CM 2000/10 8,000 4,200 23 22 DN50/DN50
    CM 2000/20 20,000 2,850 23 37 DN80/DN65
    CM 2000/30 40,000 1,420 23 55 DN150/DN125
    CM 2000/50 80,000 1,100 23 110 DN200/DN150
    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。
    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。
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