碳纳米管研磨分散机，高剪切研磨分散机

碳纳米管研磨分散机，高剪切研磨分散机

详细信息

品牌：IKN	型号：CMD2000	工作方式：颗粒研磨机
类型：转轴式研磨机	适用物料：乳化液，悬浮液	应用领域：医药，食品，化工
加工批量：100	驱动功率：2.2 kw	研磨篮容量：2 L
介质尺寸：0.2 mm	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m
重量：230

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碳纳米管研磨分散机转速*高可达14000rpm，定转子间隙0.2-0.3mm，线速度达到4m/s，剪切速率特别高，研磨分散效果极佳！
碳纳米管分散在聚氨酯中，物料粘度太大，不易流动，温度控制严格，研磨细度要求高，这是分散工程中的难点。

上海IKN工程师推荐使用IKN的研磨分散机设备CMD2000系列研磨分散机，自上市以来，受到众多客户的欢迎，独特的工作头设计，可以达到研磨、分散、乳化、均质一步到位的高要求。

CMD2000系列研磨分散机工作腔采用夹套设计，可加热或者冷却（不与物料接触）。 CMD2000系列研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到*低，保证机器连续24小时不停机运行。
此次与武汉某工程大学以及哈尔滨某大学的实验更是充分证明了CMD2000系列研磨分散机在碳纳米管改性聚氨酯这一研究上取得的成功。

胶体磨CMD2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CMD在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CMD2000整机采用*佳几何机构的研磨定转子，*好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

碳纳米管研磨分散机运行原理（高剪切研磨分散机，高剪切乳化分散机，研磨分散机）：碳纳米管研磨分散机在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的*小细度可达0.5um。

碳纳米管研磨分散机CMD2000系列的特点：
①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

碳纳米管研磨分散机CMD2000系列设备选型表：

型号	流量 L/H	输出转速 rpm	线速度 m/s	马达功率 KW	出/入口连接
CMD2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
CMD2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*大允许量的10%

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