混悬液胶体磨，口服混悬液胶体磨

混悬液胶体磨，口服混悬液胶体磨

详细信息

品牌：IKN	型号：CM2000	工作方式：颗粒研磨机
类型：转轴式研磨机	适用物料：乳化液，悬浮液	应用领域：医药
加工批量：100	驱动功率：2.2 kw	研磨篮容量：2 L
介质尺寸：0.2 mm	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m
重量：230

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混悬液药剂是指难溶性固体药物以微粒状态分散于分散介质中形成的非匀相的液体药剂。混悬剂属于粗分散体系，分散相质点一般在0.5~10μm，但凝聚体的粒子可小到0.1μm，大到50μm；所用分散介质大多数为水，也可用植物油。对于混悬液药剂的制备国家有严格的质量要求：药物本身化学性质应稳定，有效期内药物含量符合要求；混悬微粒细微均匀，微粒大小应符合该剂型的要求；微粒沉降缓慢，口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90，沉降后不结块，轻摇后应能迅速分散；混悬剂的粘度应适宜，倾倒时不沾瓶壁；外用混悬剂应易于涂布，不易流散；不得有发霉、酸败、变色、异臭、异物、产生气体或其他变质现象；标签上应注明“用前摇匀”。

制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国内的设备之后，放弃了具有极度价格优势的国内设备，来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)

混悬液胶体磨CM2000系列特别适合于超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用了三级错齿磨头定转子，磨头定转子间隙在0.2-0.7之间，间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙，在转速不变的情况下，间隙越小，速胶体磨研磨、分散效果会越好。故名思意，高速胶体磨有着非比寻常的转速，IKN工程师们通过改变皮带轮的传动比例，使原本只有3000rpm的电机，经过传动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明，在磨头定转子间隙不变的情况下，转速越高，高速研磨机研磨、分散效果越好。如果客户想要使物料达到更好的效果，我们提供丹弗斯变频器供客户选择，高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm，是国内设备转速的4-5倍。

混悬液胶体磨CM2000系列运行原理：胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的*小细度可达0.5um。

混悬液胶体磨CM2000系列的特点：
①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

型号	流量 L/H	输出转速 rpm	线速度 m/s	马达功率 KW	出/入口连接
CM2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
CM2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
CM2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
CM2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
CM2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
CM2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到*大允许量的10%

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