真菌类制剂胶体磨，真菌胶体磨

当用我们的设备好处是什么？效果好（研磨效果、均质效果、分散效果、乳化效果……），速度快，效率高。每一台设备都具有多功能改装，根据不同的要求更换不同的模块。还有什么？？？那就是能耗低，据用过依肯的设备客户反应，就电费就能省下不少。如何去选择一台合适的设备，一定会做一个明智的选择！

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IKN纳米胶体磨与卧式胶体磨的性能比较：

一、转速和剪切速率：IKN纳米胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1XX胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：IKN纳米胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工XX胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：IKN纳米胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转XX胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

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定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

IKN管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较：

转速和剪切力：

XX胶体磨，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速

线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S

作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1

IKN高剪切胶体磨，9000/14000RPM通过皮带加速

线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S

作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1

这是研磨粉碎的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍

设备设计构造：

XX胶体磨，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要*的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴

IKN高剪切胶体磨，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。

密封：

XX胶体磨，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口压力可以达到12-13 bar .

产品效果：

XX胶体磨，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀

IKN高剪切胶体磨，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化粉碎

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