- 缓控迟释制剂胶体磨,缓释、控释制剂的辅料胶体磨
详细信息
品牌:IKN 型号:CMS20000 工作方式:颗粒研磨机 类型:转轴式研磨机 适用物料:缓释、控释制剂的辅料 应用领域:医药 加工批量:100 驱动功率:30 kw 研磨篮容量:100 L 介质尺寸:100 mm 行程:10 mm 外形尺寸:1-1-1 m 重量:200
缓控迟释制剂控释制剂:指药物能在预定的时间内自动以预定速度释放,使血药浓度长时间恒定维持在有效浓度范围的制剂。广义的讲,控释制剂包括控制药物的速度、方向和时间,靶向之际、透皮吸收制剂均属此列。
缓释、控释制剂的辅料:多为高分子化合物,主要有阻滞剂、骨架材料、增粘剂。
① 缓释包衣材料。不溶性材料、肠溶材料:CAP、丙烯酸树脂L、S型、羟丙甲纤维酞酸酯(HPMCP)、醋酸羟丙甲纤维素琥珀酸酯(HPMCAS)。
② 骨架材料:生物溶蚀性骨架材料(脂肪、蜡类)、亲水胶体骨架材料(MC、CMC-Na、HPMC、PVP、卡波普、海藻酸盐、脱乙酰壳聚糖)、非溶蚀性骨架材料(EC、聚甲基丙烯酸酯、无毒聚氯乙烯、聚乙烯、乙烯醋酸乙烯共聚物、硅橡胶)。
③ 增粘剂:延长液体药剂的药效。明胶、PVP、CMC、PVA、右旋糖苷。
用扩散原理达到缓、控释作用的方法:
① 包衣:小丸或片剂包衣、不包衣、包不同厚度的衣。
肠溶材料:利用其溶解特性使产生缓释作用。如Eudragit L、S,L不溶于强酸但在含盐的中性溶液中可溶,S在酸性、中性介质中难溶,在碱性介质中可溶。适当比例的L、S配合,可获得在一定pH介质中可溶的包衣材料,与增塑剂混合,用适当方法包衣可制成接近零级的的控释制剂。
阻滞剂:疏水性高分子物质,石蜡、高级脂肪酸、醇、单硬脂酸甘油酯,硬脂酸、镁、钙盐、虫胶。
② 制成微囊:微囊膜为半透膜,形成饱和溶液扩散。药物释放度的决定因素有囊膜的厚度、微孔的孔径、微孔的弯曲度。
③ 制成不溶性骨架片:以不溶性塑料例如无毒聚氯乙烯、聚乙烯、聚乙烯乙酸酯、聚甲基丙烯酸酯、硅橡胶为骨架,适合水溶性药物,药物释放度的决定因素有药物的溶解度、骨架的孔率、孔径和孔的弯曲度。
制备方法:药物与塑料混合;湿法制粒;溶剂法制颗粒、压片。
④ 增加粘度以减少扩散速度:主要用注射剂及其它液体制剂。如明胶用于肝素、CMC(1%)用于盐酸普鲁卡因注射液(3%)。
⑤ 制成植乳剂:将不溶性药物熔融后倒入模型中形成,一般不加赋形剂。
⑥ 制成药树脂:阳离子交换树脂与有机胺类、阴离子交换树脂与有机羧酸盐或磺酸盐交换即成药树脂。作成胶囊、片剂。只有解离性药物才适用于制成药树脂。交换容量有限,故大剂量药物不易制成药树脂。
⑦ 制成乳剂:水溶性药物可制成W/O型乳剂。水相→油相→体液。
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IKN管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较:
转速和剪切力:
XX胶体磨,3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切胶体磨,9000/14000RPM通过皮带加速
线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是前者的4-5倍
设备设计构造:
XX胶体磨,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要*的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN高剪切胶体磨,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。
密封:
XX胶体磨,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至,可24小时不停运转,特殊德国PDFE轴封,可以运行10000小时,可选择德国高品质机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口压力可以达到12-13 bar .
产品效果:
XX胶体磨,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀
IKN高剪切胶体磨,可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米级分散乳化粉碎
大肠杆菌细胞破碎后的液体中含蛋白质40-70%,核酸10-30%,多糖2-10%,脂类10-15%。该液体之所以显黏性是由细胞破碎后核酸释放出来造成的。可以加入DNase来消化掉核酸污染。
IKN管线式高剪切研磨分散机是由IKN研发工程师于2013年研发的一款用于物料精细研磨,分散,乳化,均质的高精度设备,高剪切研磨分散机结合了IKN高剪切胶体磨与IKN高剪切分散均质乳化机的高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前XX设备转速的4-5倍
下面简单介绍一下IKN连续式胶体磨和卧式连续式胶体磨的对比:
三级结构
磨头结构
转速
线速度
模块头
密封类型
产品效果
XX连续式胶体磨
沟槽是直线,同级的沟槽深度一样
沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下
目前是不通过变频器来调节,若通过变频调节,他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM(这是由于胶体磨的内部结构及XX的程度决定的。)
大约在10-15M/S
只有一种模块头
单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
IKN连续式胶体磨
沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅
斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大
可以通过变频调速,转速可达7890/13789RPM ,通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小)
23-40 M/S
可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块
双机械密封,易于清洗,将泄漏降至更低,可24小时不停运转
可实现1-10微米小粒径材料加工
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