• 石墨烯剥离方法及剥离得到的高质量剥层材料

    详细信息

     型号:CMSD2000  品牌:IKN  工作方式:颗粒研磨机  
     适用物料:石墨烯  应用领域:化工  加工批量:0-3000  
     驱动功率:2.2-37 kw 研磨篮容量:10000  介质尺寸:100  
     行程:100  外形尺寸:1X1X2 m 重量:200 kg 
     驱动方式:电动  作用对象:锯刀   
    石墨烯剥离方法及剥离得到的高质量剥层材料,石墨烯剥离方法,机械剥离法、晶体外延法、化学气相沉积法等

    目前石墨烯的制备方法有机械剥离法、晶体外延法、化学气相沉积法、 特定活性剂的石墨插层剥离法以及氧化石墨烯的高温和化学还原法。机械剥离法虽然能得 到质量非常高且单层石墨烯,但是这种方法仅限于理论研宄,不适合大规模应用制备。气相 沉积法虽然能制备结构完整石墨烯,但产量太低,而且成本较高。目前使用*广泛的一种方 法是氧化还原法。氧化还原法的过程主要是:先对天然石墨进行氧化得到氧化石墨,由于片 层间引入大量含氧基团,通过简单分散可获得氧化石墨烯,再经过高温还原或化学还原得 到还原的石墨烯。这种方法虽然有利于实现量产制备石墨烯,但是这种方法由于氧化过程 对石墨烯结构破坏程度大,在很大程度上影响了其导电性能,从而限制了其在较多方面尤 其是在导电材料的应用。

    还有通过先将石墨采用强酸等插层剂进行插层处理制备得到插层石墨,亦即 可膨胀石墨,然后对可膨胀石墨进行微波或高温热处理后发生膨胀形成膨胀蠕虫结构,再 进行剥离得到石墨烯。但是这种过程所使用原料亦采用了酸性物质对石墨片层之间通过化 学反应进行了插层处理,对其原始结构仍会造成一定程度的破坏,从而影响*终所得石墨 烯的性能。

    一种物理膨胀剥离层 f材料的方法及剥离得到的高质量剥层材料。插层剂和活化剂等原 料与层状材料均未发生化学作用,主要是通过强的物理冲击作用克服范德华力实现层状材 料的膨胀剥离,制备得到的剥层材料的层数少且且质量高。

    工艺步骤  

     

    1 将层状材料和插层剂混合,实现插层剂对层状材料的浸润;
    2向步骤(1)混合得到的混合液中加入活化剂,使所述活化剂与所述插层剂发生反 应,反应产生的气流对所述层状材料的物理冲击作用使层状材料的片层发生剥离,得到剥 层材料前驱体的分散液;
    (3) 将步骤(2)得到的剥层材料前驱体的分散液与分散介质混合,对得到的分散体系进 行物理打散,得到剥层材料的分散液。

    有点

    层剂和活化剂之间剧烈反应产生的气流冲击克服片层间的作用力,实 现膨胀剥离,此通过冲击使片层膨胀剥离的过程是物理过程,因而对原始层状材料的结构 破坏非常小,剥_制备得到的剥层材料质量非常高。


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    研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 

    研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

    CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     

    研磨分散机应用领域:

    化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛白粉,炭黑,纤维素,石墨烯,碳纳米管,富勒烯,电池浆,压裂液料,纤维,芳纶,氯纶,晴纶等。         

     食品工业:芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麦乳精、香精、各种饮料 花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱,食用菌丝,蛋白粉 ,豆粕酶解等
    日用化工:牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高级化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜,粉底 等。
    医药工业:各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮,口服混悬液,注射混悬液 ,胶囊,微球 动物组织破壁盐酸头孢噻呋,硫酸头孢喹肟 等。
    建筑工业:各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
    新能源材料:石墨烯、 碳纳米管 、碳纤维、 锂电池浆料、电池隔膜 润滑油等等

     

     

    设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
    电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
    电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    电机选配件: PTC 热保护、降噪型
    研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
    研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
    研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
    进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
    研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

    研磨分散机

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    22

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。
    3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。


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