依肯IKN头孢噻呋钠复方制剂医药高速胶体磨CMSD2000

头孢噻呋钠复方制剂胶体磨，注射用头孢噻呋钠胶体磨，医药胶体磨，10000转高速胶体磨 ，高速均质机，高速粉液混合均质泵，盐酸头孢噻呋混悬注射液 注射用头孢噻呋钠。

药物制剂指难溶性固体药物以微粒状态分散于分散介质中形成的非均匀分散的液体药剂。分散相微粒的大小一般在0.5～10μm之间，小的微粒可为0.1μm，大的微粒可达50μm或更大。混悬剂的分散介质多为水，也有用植物油。

该设备用于将粉末状的药物有效成分分散至注射用大豆油相中，形成均一、稳定、粒度分布集中的混悬液，然后输送至分装缓冲罐，进行分装。

目前国内市场上大多数的胶体磨厂家生产出来的胶体磨转速只能达到3000rpm左右，当然我所说的都是指工业化的胶体磨机。对于实验室小型胶体磨机，由于电机（220V），轴等因素转速可达20000rpm左右，但是这种实验室胶体磨无法对应放大到生产中，所以在这里不做重点讲诉。
                                      

国内胶体磨的结构大都都是直连电机，胶体磨机的主轴和电机直连，电机就决定了主轴的转速。而进口胶体磨采用分体式结构，通过皮带进行变速，国产设备由于结构的设计缺失、机械密封技术的不足的原因，以及改进后成本大幅度的提高问题，一直无法实现高速胶体磨机的自主研发和生产。

盐酸头孢噻呋超高速分散胶体磨通过皮带传送，可实现2到3倍的加速，同时立式直立的转轴，运转稳定性大大提高，同时转子动平衡性得到提高，间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式湿法粉碎机有zui好的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理，还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎，超细物料的均匀分散，以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨也可以成为反应发生的场所，比如两种液体物料反应生成固体颗粒，通过分别通入腔体，两种物料接触时被剪切成微滴，均匀混合后反应生成的粒子大小均匀，并且粒径很小。

上海依肯研磨分散胶体磨设备特点：
1、耐有机溶剂、耐腐蚀；
2、材质为316L不锈钢；
3、设备定转子（研磨分散工作腔体）间间隙可调，粒度可控；
4、设备整体机身夹套设计，高转速产生的热量可以通过外接冷却设备进行控温；
5、主轴与电机分体设计，用户可根据需要选择适当的转速；
6、设备为变频调速，可通过变频控制柜合理准确的调节设备转速；
7、可灵活设计生产过程中的特殊需求（设备表面光洁度、真空、防爆、设备材质）；

8、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

IKN胶体磨与国nei胶体磨的性能比较：

一、转速和剪切速率：

IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

国nei胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的zhong要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：

IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国nei胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：

IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转

国nei胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

四、清洗：

IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计无死角，立式结构符合流体原理，清洗更简便

国nei胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

通常情况，需要拆卸机器进行清洗

胶体磨内部结构及分析：
　　粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

混合区：首先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合，在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺；

剪切区：物料进入剪切区后，由于上道工序只把物料进行混合，没有把物料进行大颗粒破碎，这个问题由高剪切机来完成，该剪切区由三层数百条刀槽组成，将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。

研磨区：研磨区是由凹凸胶体磨组成，转定子切有许多中齿及细齿组成，将已剪切的小颗粒进行深化研磨，研磨时可调距离为0.01~3mm；

1、     有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能；

2、     可使用较硬的各类易碎颗粒；

3、     可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间；

4、     定、转子间歇可以调节，调节距离为0.01~3mm，可降低启动负荷，从而减少能耗

5、     转、定子材料可选用2cr13 9cr18  2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。

胶体磨在设计上的突出优点在于：

1、转速14000rpm，相较其它厂家2900转左右高出约三倍：

2、磨头结构更精密并有独特设计,使之研磨作用力更大，效果更好。

3、德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4、CM2000/4中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到更低。

IKN胶体磨选型表：

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和***终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。