德国IKN分散用研磨新工艺改进型硫酸钡溶液连续粉碎机CMSD2000

分散用研磨新工艺改进型硫酸钡溶液连续粉碎机适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末，密度4.25-4.5，分解温度＞1600℃。溶于热浓硫酸，几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性。

　　对于硫酸钡溶液的生产，目前许多厂家采用国产胶体磨生产，由于国产胶体磨本身转速较低为2930转，生产出来的硫酸钡溶液粒径一般在20μm左右，而且生产效果很低，需要研磨5-6小时。而使用IKN研磨分散机进行处理，研磨两遍，粒径可以细化到5μm，效果好，效率高。

改进型硫酸钡胶体磨，硫酸钡研磨机，硫酸钡溶液研磨胶体磨，碳酸钙高速研磨分散机，化工固液混合研磨机由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，同时，可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力，从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面ling先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

　　改进型硫酸钡研磨分散机的特点:

　　①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

　　②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

　　③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

　　④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

当所处理的物料要达到非常细，分散程度高的时候，对于设备的要求就会非常的高。而从设备角度来考虑的话，能够达到超细的效果，要具备以下条件：
 

1、XX的剪切力，CMSD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm，线速度为44m/s，是普通设备的4-5倍。

2、高经密度的定转子，超细研磨分散机的定转子分为两级，一级为胶体磨磨头，采用三级错齿结构，磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头，IKN分散头有六种不同的规格，从粗到细，越来越密，分散效果佳。

3、机械密封，超细的效果取决于高的转速，而转速越高机械密封的发热量就会越大，设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速，国nei大多数厂家的机械密封是wu法承受的，上海依肯CMSD系列采用的是德国双端面集装箱式机械密封。当有持续的冷冻水提供给机械密封时，设备可24小时连续生产。

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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