- 德国(依肯)IKN分散氨沉淀法生产氢氧化镁制浆高速胶体磨机CM2000
详细信息
型号:CM2000 品牌:德国(依肯)IKN 工作方式:沉淀法胶体磨 适用物料:流体浆料 应用领域:化工新能源 加工批量:100 驱动功率:11 kw 研磨篮容量:1 介质尺寸:12 行程:1 外形尺寸:1 m 重量:260 kg 驱动方式:电动 作用对象:锯刀 分散氨沉淀法生产氢氧化镁制浆高速胶体磨机是为胶体溶液生产所设计,te别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙fei常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
分散氨沉淀法生产氢氧化镁制浆高速胶体磨机的一种重要方法,以氨为沉淀剂,反应式为 : Mg2++2NH3·H2O → Mg(OH)2 ↓ +2NH4 + 由于氨水的碱性弱 NH4 + 会使 Mg(OH)2 的溶解度加大,因而反应过程易于控制,可通 过工艺调整制得高纯微细和大晶粒易洗涤的氢氧化镁产品,适用于医药、化学试剂以及电 子级氢氧化镁等对纯度要求高的行业。此法是国内生产氢氧化镁普遍采用的方法,近年来 改进的制备工艺主要有(上海依肯机械胶体磨设备-段工 )一步法和连续沉淀法两种。一步法是将沉淀反应、水热处理、表面处理一步完成,缩短了工艺流程,设备投资 少,成本低,产品的性能也较传统方法有较大提高。该法适用于镁离子浓度较高的卤水原 料,特别是镁含量在 30 克 / 升左右的卤水。 [00连续沉淀法是对传统卤水 - 氨沉淀制取氢氧化镁方法的改进。该工艺的进料镁离 子浓度较高,同时保持相对较低的过饱和度,体系中始终有定量氢氧化镁存在,而且可以调 节物料在反应器内的停留时间。该法连续化生产,原料利用率高,反应时间短,设备投资少。胶体磨工作原理:胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的gao速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超细粉碎及乳化的效果。
三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度da到3bei以上,#X的转速可以da到14000RPM。所以可以da到更好的分散湿磨效果
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无jun级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
胶体磨材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
胶体磨选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
胶体磨表面处理:抛光、耐mo处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
胶体磨选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器胶体磨
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CM 2000/4
700
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CM 2000/5
3,000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CM 2000/10
8,000
4,200
23
22
DN50/DN50
CM 2000/20
20,000
2,850
23
37
DN80/DN65
CM 2000/30
40,000
1,420
23
55
DN150/DN125
CM 2000/50
80,000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和#终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,bi须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数yi提供的实物为准。
5 本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。 -