德国IKN多孔型有机硅微米纳米微球超高速乳化机ERS2000

多孔型有机硅微米纳米微球超高速乳化机，目前有机硅微米或纳米粒子的制备主要是通过将有机硅烷水解完全后加碱进行缩合，进 而生成纳米或微米级正球型粒子，再经过滤、烘干完成制备。球形粒子的粒径及其分布只能 通过硅烷与水的比例以及碱的加入比例进行间接调整，波动很大，尤其批次生产量较大的时 候，不利于稳定控制。而且，生产过程中会产生大量含有低浓度XX的废水，通常情况下生 产1吨成品会产生15-20吨废水，这些废水如果直接排放，污染指数超标、毒害环境，如果 进行蒸馏处理，又很不经济。同时上述制备方法生产周期冗长，通常1个生产周期需要8-10 小时，不利于提高生产效率。

正球形透明微米级粒子可以作为光扩散粒子使用已广为行业内人士所熟知。

随着LED照明行业的技术发展，满足雾度(扩散性)前提下更高的透光率成为新追求，而目前的有机硅微米级实心球存在的问题是：1.0-2.0微米的小粒径产品在低添加量下就可以满足雾度要求，但获得的透光率偏低；5.0-15微米的大粒径产品可以获得高透光率，但需要高加入量才可以满足雾度要求，造成成本升高；因而越来越难以满足用户需求

步骤1、将液体有机硅组合物、固化延迟剂、催化剂、亲油乳化剂和水进行混合乳化，制得油包水乳液；

步骤2、将油包水乳液与亲水乳化剂和水混合乳化；

步骤3、预热步骤2得到的产物；

步骤4、干燥步骤3制得的物质。

影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 乳化头的剪切速率 （越大，效果越好）

3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，chao细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不neng zai好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

    chaoX速分散均质乳化机的高的转速和剪切率对于获得chao细微悬浮液是重要的。根据一些行业te殊要求，依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000chaoX速剪切乳化机机。其剪切速率可以chao过200.00 rpm，转子的速度可以da到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji gao,无需其他辅助分散设备,可以da到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.

    chaoX速分散乳化机是、kuai速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度da到微米数量级时，甚至纳米级时，体系可被认为均质。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子gao速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下，shun间均匀精细的分散乳化，经过高频管线式高剪切分散均质乳化机的循环往复，#终得到稳定的XX产品。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和#终产品的要求。