IKN（依肯）用于集成电路化学机械抛光液气相纳米二氧化硅高速混合分散机ERS2000

IKN（依肯）用于集成电路化学机械抛光液气相纳米二氧化硅高速混合分散机ERS2000

详细信息

品牌：IKN（依肯）	类型：剪切分散机	物料类型：固-液
适用物料：化学品	应用领域：化工	型号：ERS2000
速度类别：有级变速	调速范围：15000 r/min	分散轮直径：80 mm
升降行程：100 mm	电机功率：11 Kw	变速方式：变频变速
罐容量：100 L	外形尺寸：1000 mm	整机重量：500 kg

用于集成电路化学机械抛光液气相纳米二氧化硅高速混合分散机是以高纯气相二氧化硅为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
化学机械抛光适用于半导体器件的生产线前段工艺以及生产线后端工艺，在半导体器件制造过程中，针对涉及前段工艺的浅沟槽隔离的化学机械抛光近些年被广泛研究；在该工艺中需要对沉积在硅晶片的开口中的原硅酸四乙酯电介质层进行抛光

气相二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,由于其粒径很小，因此比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及领域内独具特性，有着不可取代的作用。气相二氧化硅俗称"超微细白炭黑"，广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体，石油化工，脱色剂，消光剂，橡胶补强剂，塑料充填剂，油墨增稠剂，金属软性磨光剂，绝缘绝热填充剂，高级日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各种领域。并为相关工业领域的发展提供了新材料基础和技术保证。由于它在磁性、催化性、光吸收、热阻和熔点等方面与常规材料相比显示出特异功能，因而得到人们的重视。

分散效果介绍：分散是至少两种不相容液体构成热力学不稳定体系，一种液体以球形单位分散在另一种液体中，所以分散越稳定分散效果越好。

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：

1.分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.分散头的剪切速率，（越大效果越好）

3.分散头的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

ERS2000系列选型表：

	标准流量（H2O）	输出转速	标准线速度	马达功率	进出口尺寸
型号	l/h	rpm	m/s	kW
ERS 2000/4	700	20000	66	5.5	DN25/DN15
ERS 2000/5	1,500	15,750	66	15	DN40 /DN 32
ERS 2000/10	5,000	10,950	66	30	DN50 / DN50
ERS 2000/20	10,000	7,300	66	55	DN80 /DN 65
ERS 2000/30	30,000	4,000	66	90	DN150 /DN 125
ERS 2000/50	50,000	3,000	66	160	DN200 /DN 150

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