管线式高速剪切研磨分散机 IKN高剪切研磨分散设备

研磨分散机，高剪切研磨分散机，IKN管线式高速剪切研磨分散设备转速*高可达14000rpm，是国产研磨机转速的4-5倍，研磨分散设备采用胶体磨与分散乳化机相结合的方式，使物料在高速率剪切下可以使物料打的更细，分散的更好。

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简介：
胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用*佳几何机构的研磨定转子，*好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
高剪切胶体磨运行原理：
高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的*小细度可达0.5um。
高剪切胶体磨主要用途
高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。

胶体磨应用领域： ①食品工业：芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、果酱、果汁、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、乳制品，麦乳精、各种饮料等。 ②化学工业：油漆、颜料、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、洗涤剂、玻璃钢、白炭黑,二氧化硅等。 ③日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高级化妆品、沐浴精、肥皂、香脂等。 ④医药工业：各型糖浆、中成药、生物制品、鱼肝油、蜂皇浆、疫苗、药膏、口服液、针剂、混悬注射液,脂肪乳等。 ⑤建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 其它工业：塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业优质环保的生产需要。

 
IKN胶体磨结构：
三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。虽然都是三级结构，但是他们的设计不同理念不同，形状及齿列的结构。
 
CM2000系列的特点：
①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
 
 
 
CM2000系列设备选型表

型号	流量 L/H	输出转速 rpm	线速度 m/s	马达功率 KW	出/入口连接
CM2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
CM2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
CM2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
CM2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
CM2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
CM2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同事流量可以被调节到*大允许量的10%
 
IKN的CM2000系列和国内设备相比

	三级结构	磨头结构	转速	*大线速度	模块头	密封类型	产品效果
国内设备	沟槽是直线，同级的沟槽深度一样	沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下	目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。）	大约在10-15M/S	只有一种模块头	单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁	粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
I IKN	沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅	斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大	可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM，通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小)	23-40 M/S	可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块	双机械密封，易于清洗，将泄漏降至*低，可24小时不停运转	可实现1-10微米小粒径材料加工

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