• 多功能研磨分散机 高剪切研磨分散机

    详细信息

     型号:CMD2000  品牌:依肯  工作方式:高速万能研磨机  
     适用物料:化工 化妆品 食品 药品  应用领域:化工 化妆品 食品 药品  加工批量:0-10000  
     驱动功率:2.2-110 kw 重量:55 kg 驱动方式:电机  
     作用对象:铣刀    

    多功能研磨机,多功能管线式研磨机,多功能管线式高剪切研磨机是IKN研制项目之一,也是目前****的一款设备,多功能研磨分散机解决了目前进的 乳化机、分散机、胶体磨、均质机等先进研磨分散乳化均质设备不能解决的问题。多功能研磨分散机可以将物料的研磨的更细,分散的更均匀。转速依然保持 14000rpm的高转速,多功能研磨分散机成功的将多功能胶体磨跟多功能分散机进行了结合,是一款不可多得的优良设备。(注:此款设备技术目前是IKN公司有)价格电议,咨询请联系:聂倩文    QQ  ---
        管线式高剪切胶体磨乳化机是IKN(上 海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟 为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行 更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 IKN胶体磨转速: 聂倩文    QQ  ---
     

        7890/13789RPM 可以通过变频调速通过皮带加速 我们轴承可以承受14000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小)。

    IKN胶体磨结构:

        三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。虽然都是三级结构,但是他们的设计不同理念不同,形状及齿列的结构。

    IKN胶体磨磨头的结构: 聂倩文    QQ  ---
     

        沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样 形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

        为 了确保设备符合各种应用的需要,依肯公司为所有的设备都配备了一系列的可选择的定子和转子(乳化头)。不同的乳化头设计都很好满足了不同耗能水平的需要。 此外,乳化头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的 要求方面,而在线式机器对输送的要求则比较低。

        特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

        根 据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出***终产品是很重要。当不 确定一种工作头的构造是否满足预期的应用时。我们建议在实验室里进行一次实验或者测试。依肯公司鼓励顾客能够使用我们的设备,并且我们有一整套的测试 实验系统以便帮助顾客为您选型。

    管线式乳化头   

        粗精度的工作头可以满足中剪切的混合、均质工艺过程。它是由粗精度定子与泵叶式转子(2P)相组成:一个粗精度的定子在使用时通常是和一个特定的转子配套 的,转子可以提供很高的产量,这就是所谓的“P”。和其他形式的工作头相比,这种定转子组合成的分散头将产量提高了4倍,它所产生的剪切力在中等水平,并 且能产生泵的那种抽吸效应。这种工作头可以在泵的位置替代泵使用,或者可以辅助泵来增加流量,同时也可以用于辅助多级机器输送高粘度流体。               粗精度(2G)分散头:主要用于挤压、切碎、消溶和粗精度破碎。尤其适合于粗颗粒悬浮之前的预粉碎以及树脂的切碎和挤压操作。              中等精度(4M)乳化头:主要用于挤压、颜料分散、加快溶解和良好的破碎。这种乳化头在乳化和悬浮生产中应用的比较普遍,特别是颜料工艺领域,一般用在低粘度范围的生产中较多。       高精度(6F)均质头:主要用于挤压、催化、加快溶解以及要求比较高精度的粉碎。特别适合于微乳化和悬浮,经常应用在洗液、面霜等领域,主要针对低粘度范围的物料,也可以和一个喂料泵相连。     

        特高精度(8SF)均质头:主要用于挤压、催化、加快溶解以及要求特高精度的粉碎。特别适合于微乳化和精细悬浮,可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒经分布更窄。特别应用于:疫苗,细胞破碎,胶体溶液,金属氧化物悬浮液,墨水,印刷涂料,色素混合等等。主要针对低粘度范围的物料,也可以和一个喂料泵相连。

     

    CMD2000系列研磨分散机的特点:

    ①  线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

    ②  定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

    ③  定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

    ④  在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    ⑤  高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

    CMD2000系列设备选型表

     

    型号

    流量

    L/H

    转速

    rpm

    线速度

    m/s

    功率

    kw

    /出口连接

    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

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