• 实验室胶体磨 实验室多功能胶体磨

    详细信息

     型号:CMD2000/4  品牌:依肯  工作方式:高速万能研磨机  
     适用物料:化工 化妆品 食品 药品  应用领域:化工 化妆品 食品 药品  加工批量:0-10000  
     驱动功率:2.2-110 kw 重量:55 kg 驱动方式:电机  
     作用对象:铣刀    

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    详情请联系公司销售工程师  聂倩文    QQ ---

     

    德国IKN工业设备在全世界都有成功的应用和解决方案。

    实验室胶体磨

      CM2000/4(LP系列)为实验室胶体磨的技术参数:功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 /小时(水),重量35KG,尺寸 (长宽高)(450X250X350)MM,LP使用轴封(PTFE 环),在正常的情况下,一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用,一般***多可以使用连续半个小时,这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块,可以实现多功能多用途。是中试生产的选择。 

    中试型胶体磨

    CM2000/4(PP系列)为中试型胶体磨的技术参数:功率2.2-4KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 70/小时(水),重量45KG, 尺寸 (长宽高)((450X250X350)MM,PP使用双机械密封,可24小时不停机连续生产,并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块,可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准,是中试和小批量生产的选择。

    工业化胶体磨
     CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 

         三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。可以达到更好的分散湿磨效果。 
    胶体磨应用领域: 
    食品工业:芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、乳制品,麦乳精、香精、各种饮料等。
    化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、乳化等。 
    日用化工:牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高级化妆品、沐浴精、肥皂、香脂等。
    医药工业:各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、静滴液等。 
    建筑工业:各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
    其它工业:塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业优质环保的生产需要 。

     

    设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
    电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
    电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    电机选配件: PTC 热保护、降噪型
    胶体磨材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
    胶体磨选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
    胶体磨表面处理:抛光、耐磨处理
    进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
    胶体磨选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器 

     


    胶体磨 

    流量*

    输出 

    线速度 

    功率 

    入口/出口连接 

    类型 

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CM 2000/4

    700

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CM 2000/5

    2,500

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CM 2000/10

    7,500

    4,200

    23

    15

    DN50/DN50

    CM 2000/20

    20,000

    2,850

    23

    27

    DN80/DN65

    CM 2000/30

    40,000

    1,420

    23

    50

    DN150/DN125

    CM 2000/50

    80,000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。 

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和***终产品的要求。
    3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
    4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
    高剪切胶体磨运行原理:

     

    高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎,精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的***小细度可达0.5um。

     

     

    依肯高剪切胶体磨优势:

    CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

        三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

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