实验室胶体磨 高剪切胶体磨

实验室胶体磨 实验室多功能胶体磨 实验室均质机  实验室高剪切乳化机  实验室高剪切胶体磨  实验室 高剪切研磨分散机 多功能胶体磨，多功能高剪切胶体磨，食品高剪切胶体磨，药品高剪切胶体磨，化工高剪切胶体磨，医药高剪切胶体磨，化妆品高剪切胶体磨
详情请联系公司销售工程师  聂倩文    QQ ---
 

德国IKN工业设备在全世界都有成功的应用和解决方案。

实验室胶体磨
  CM2000/4（LP系列）为实验室胶体磨的技术参数：功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量35KG,尺寸 (长宽高）(450X250X350)MM，LP使用轴封（PTFE 环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般***多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途。是中试生产的选择。 
 

实验室胶体磨 胶体磨 立式胶体磨，中试型胶体磨，生产型胶体磨

CM2000/4实验室胶体磨 胶体磨 立式胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。实验室中试型胶体磨的定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。CM2000/4实验室胶体磨 胶体磨 立式胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 
     
    另外一项独特的创新，就是锥体磨CMO2000系列，研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000实验室中试型胶体磨能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。 
     
    实验室胶体磨 胶体磨 立式胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。 

    上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业，依肯通过引进德国IKN先进技术和科学管理模式，形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与全球的混合乳化技术同步，同时拥有一流的技术研究人才和生产能力，为中国及全球提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的领先者。 
     公司主要研发，生产制造，销售流体领域的几大系列：一乳化机，二 均质机，三 分散机，四 胶体磨，五 乳化泵，六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的*供应商，凭借着对广大客户要求的深入了解，为客户解决流程工艺中的难题，混合技术，乳化均质，粉液混合技术和合理的配置方案，确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域，并成功为国家重点工程配套，部分产品返销国外，取得了显著的经济效益和社会效益。