• CC气垫浆料生产设备

    详细信息

     型号:CMD2000  品牌:依肯  工作方式:高速万能研磨机  
     适用物料:化工 食品 药品 医药 化妆品 乳  应用领域:化工 食品 药品 医药 化妆品 乳  加工批量:0-10000  
     驱动功率:2.2 kw 重量:55 kg 驱动方式:电机  
     作用对象:铣刀    

    粉底研磨分散机,粉底分散机,粉底胶体磨是,BB霜胶体磨,BB霜研磨分散机,BB霜乳液生产设备,BB霜研磨设备,CC霜乳液生产设备,CC霜胶体磨,CC霜研磨分散机,CC霜生产设备,CC气垫生产设备,CC气垫乳液胶体磨 进口CC气垫生产设备
    粉底研磨分散机,粉底分散机,粉底胶体磨是过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

     本公司有成熟的技术  跟国内一线品牌的化妆品公司都有合作  得到行业*人士的认可,详细生产工艺 价格及选型请咨询公司销售工程师  聂倩文        QQ  ---

     

    粉底视频

      粉底的研磨分散   粉体和酒精1:1 亚

     

       粉底的研磨分散  粉体:水1:2

     

    粉底是粉底是妆容的基础,粉状质地的粉底是***常见的,涂在脸上显得轻柔自然,是日常妆的选择。一般有粉底液、粉饼装与散粉装三种。进行化妆时,人们总不忘给自己打一层粉底,因此,在某种程度上说,粉底是女人妆容的基础,如何打好这层基础,那就得对照于你的肤色了。任何颜色的粉底在选用的时候都不能脱离本身肤,而试用也是在脸部皮肤上。

     

    粉底

    粉底的类型很多,粉底液、粉饼装与散粉装三种,这些粉底均用于调整肤色,改善面部质感,遮盖瑕疵,体现质感,粉底的数值越大,颜色越深,使用时与肤色的色差不要过大,应选择与肤色接近的粉底。
    粉底液、粉饼装与散粉装成分并不尽相同,粉饼装主要成份是颜料、油份、水份和色素,大多数是化学成份;而粉底液则会添加一些护肤成份,好的粉底更会添加植物成份,兼有较好的护肤功效。
    滑石粉:滑石粉可使其它粉底平滑地铺展到皮肤上,并使皮肤滑爽。
    高岭土和二氧化钛:使粉底具有较强遮盖力,并且可以消除滑石粉的闪光。
    硬脂酸锌和肉豆慈酸锌:具有较强的附着力。
    碳酸钙和碳酸镁:可吸收皮肤表面的汗液和油脂,也有消除滑石粉闪光的作用。
    颜料:一般是无机颜料和有机颜料混用。常用的无机颜料氧化铁与红色或橘黄色的有机颜料混合而成为粉底的颜料。
    粘合剂:使上述的各种粉底溶合成型。主要有动植物和液体石蜡等矿物油或合成的脂油构成。
    其他成分:防腐剂、抗氧化剂和香料等。

    植物成份:如海藻萃取精华、山药萃取物、维生素类、弹性蛋白、珍珠粉等,具有修护柔软肌肤、保湿美白、增加肌肤弹力及光泽等功效。

     

    粉底研磨分散机是 

    机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将多级高剪切均质乳化机进行改装,我们将多级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P2G4M6F8SF等五种乳化头供客户选择)

    1  线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

    ②  定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。

    ③  定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

    ④  在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    ⑤  高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

    CC气垫高剪切胶体磨运行原理: 
    CC气垫高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎,精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的***小细度可达0.5um。
     
     CMD2000系列BB霜胶体磨是专门CC气垫胶体磨特别是那些需要很好乳化和分散效果的生产。CMD2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     BB霜胶体磨
    ☆ 高效、节能
    传统设备需8
    小时的分散加工过程,CM
    设备1
    小时左右完成,超细分散效果显著,能耗*降低;
    ☆ 高速、高品质

    传统设备的搅拌转速每分钟几十转,带分散功能的转速每分钟1500转以内,只完成宏观分散加工,超细分散能力极为有限;CM设备的转速每分钟10000~15000转之间,超高线速度产生的剪切力,瞬间超细分散浆料中的粉体。
    依肯上海公司于德国公司长期保持良好合作  致力于研发生产高性能乳化机 分散机  均质机 高剪切分散乳化机 胶体磨  研磨分散机   现应用领域覆盖全国的各种行业 我们有非常多的合作案例   如有需要详细咨询请致电   聂倩文

     

    粉底研磨分散机   雅思兰黛 粉底研磨分散机   

     

    型号 

    研磨分散机

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    18

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和***终产品的要求。

    3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

    4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。

     

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