对位芳纶浆料生产设备

对位芳纶浆料生产设备

详细信息

型号：CMD2000	品牌：依肯	工作方式：高速万能研磨机
适用物料：化工化妆品食品药品	应用领域：化工化妆品食品药品	驱动功率：2.2-110 kw
重量：55 kg	驱动方式：电机	作用对象：铣刀

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对位芳纶是由对苯二胺、对苯二甲酰氯及含有杂环结构的二胺三种单体共缩聚得到的，故称芳纶Ⅲ，因其含有杂环结构，也称杂环芳纶。芳纶Ⅲ和全对位芳纶（如Kevlar、Twaron等）在结构、制备工艺及性能方面都存在*不同，芳纶Ⅲ因其独特的分子结构和工艺技术而具有低密度、超高强度、超高模量、耐高温、抗冲击性好、耐磨性好、透波性好等优良性能，是综合性能***好的有机纤维之一，在飞机部件(螺旋桨、轮胎、机身、主翼、尾翼等部位)、星载/机载/舰载雷达罩、卫星部件、防弹材料（高级防弹衣、防弹头盔、防弹护甲）、仪器防舱、电力电信、输送材料、体育用品等领域有广泛应用。

？？？？目前，具备杂环芳纶批产能力的只有俄罗斯和中国。杂环芳纶因原料成本高、生产效率低、应用开发受限等问题导致产品价格居高不下，只在军工和少数民用高端领域应用。未来随着技术进步和需求增加，杂环芳纶价格会逐渐降低。

？？？？对位芳纶作为一种综合性能***好的轻质高强材料之一，广泛应用于国防军工和现代工业等领域，其应用形式主要有缠绕、UD、织物等。例如，芳纶Ⅲ UD预浸料可以用于飞机尾翼、腹鳍、机舱、安全防护、复合装甲等制件的制备；织物可用于机载、舰载雷达罩、防弹头盔等；缠绕可用于火箭发动机、压力容器、隔爆装置、铀浓缩离心机等。主要***终应用领域如下：
1、航空航天。航空航天领域对芳纶Ⅲ纤维的需求强劲，主要用于发动机壳体、飞机构件、雷达罩、仪器房舱等方面。
2、防弹装甲。芳纶Ⅲ在防弹装甲领域主要用于反恐装备、坦克和装甲车装甲、武装直升机和战斗机护甲、舰船护甲、车船载仪器房舱、VIP防弹衣等方面。
3、橡胶增强。飞机轮胎增强方面，芳纶Ⅲ具有优异的耐高低温性能、耐磨性等，同时具有和橡胶一致的弹性伸长，因此是高档轮胎理想的增强材料；远距离输送用胶管增强也是芳纶Ⅲ的优势领域之一。
4、电子信息。芳纶Ⅲ纤维具有高强高模特性，可以用于光纤/光缆增强，尤其适用于远距离、大张力光纤/光缆。
5、核工业及其他。芳纶Ⅲ可以用于高速离心机壳体、医疗用核磁共振核心部件等。

芳纶Ⅲ纤维的制备主要分为聚合、纺丝和热处理三部分。
聚合主要是采用低温溶液共缩聚技术，具体为：将胺类单体加入到配置好的复合溶剂（DMAC+LiCl）中，搅拌溶解后，降温至10℃以下，分批加入TPC，反应过程中体系粘度逐渐增加至工艺要求后，输出至聚合物溶液储罐。
纺丝一般采用湿法纺丝工艺，也有采用干湿法纺丝工艺，湿法纺丝工艺步骤为：将聚合工序过来的聚合物溶液输送至静态脱泡釜或连续脱泡釜中，经负压脱泡后输出过滤，而后经计量泵后喷丝、凝固、拉伸、洗涤、干燥。
热处理可分为在线连续热处理和间歇离线热处理两种。在线连续热处理主要是采用甬道式加热方式，将从纺丝工序过来的芳纶Ⅲ原丝不经过收卷，直接进入高温通道，经温度、张力和速度的工艺匹配处理后，收丝成卷。间歇离线热处理是将纺丝工序的原丝收卷，之后送入高温炉中进行整卷处理

◆ 研磨分散机: 高剪切分散机的核心部件是定子/转子结构，转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来强劲的动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械剪切、液力剪切、离心挤压、液层磨擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺的条件下，瞬间均匀精细地分散，经过高频的循环往复，***终得到稳定的高品质产品。与三辊机、球磨机、砂磨机相比，研磨分散机具有效率高、能耗低等显著优点，是分散工艺的首选。

纳米材料研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

1 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到**大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和***终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

纳米材料研磨分散机,德国纳米材料研磨分散机

设备特点

⑴CMD设备与传统设备相比：

高效、节能

传统设备需8小时的分散加工过程，CMD设备1小时左右完成，超细分散效果显著，能耗*降低；

高速、高品质

传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带分散功能的转速每分钟1500转以内，只完成宏观分散加工，超细分散能力极为有限；ERS设备的转速每分钟10000～15000转之间，超高线速度产生的剪切力，瞬间超细分散浆料中的粉体。

⑵CMD设备与同类设备相比：

多层多向剪切分散

同类设备的定转子等部件结构单一，多级多层的结构是单纯重复性加工，相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象；

CMD设备的定转子结构采用多层多向剪切概念，装配式结构使物料得到不同方向剪切分散，杜绝了短路现象，超细分散更为彻底。

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