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    医药混悬液如何选择胶体磨

    2018-02-05 07:44:50  来源:IKN
    医药混悬液如何选择胶体磨

    液体药剂中的药物可以是固体、液体或气体,在一定条件下分别以分子或离子、胶粒、颗粒、液滴状态分散于液体分散媒(溶剂,下同)中组成分散体系。如分散相以分子或离子状态分散于液体分散媒中者称为溶液(真溶液),其中溶质分子量小的称为低分子溶液;溶质分子量大的(如蛋白质类)则称为高分子溶液。胶体溶液除了高分子溶液以外,还包括溶胶,它由多分子聚集体作为分散相的质点,分散在液体分散媒中。如果以固体颗粒或液滴分散于分散媒中,颗粒或液滴与分散媒之间有相界面,前者称为混悬液,后者称为乳浊液

    根据分散相粒子大小及分散情况的不同,将液体药剂分为溶液型胶体溶液型混悬液型乳浊液型四类。按应用方法,液体药剂可分为内服、外用和注射三大类。

    液体药剂中的分散介质统称为分散媒,被分散的药物称为分散相。其中溶液型和胶体溶液型药剂的分散媒亦称为溶剂;乳浊液型药剂的分散媒又称为外相或连续相

    医药混悬液的要求 严格控制药物颗粒的大小。供一般注射者,颗粒应小于15μm,15~20μm者不应超过10%;供静脉注射者,颗粒大小在2μm以下者占99%.否则会引起静脉栓塞。有较好的分散性,不能沉降太快。在贮存时一旦沉下后经振摇可再分散而不能产生结块现象

    所以控制颗粒大小决定产品的质量

    影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

     

    2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

    3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

    4  物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

    5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

     

    线速度的计算

    剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

    剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)  
                                g
    -转子 间距 (m)

    由上可知,剪切速率取决于以下因素:

    转子的线速率

    在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
    IKN
    -转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

     

    速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

    粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹,近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是,在某一能量水平上, 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。

    IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果

     

    目前国内市场上大多数的胶体磨厂家生产出来的胶体磨转速只能达到3000rpm左右,*大的  当然我所说的国内胶体磨机的结构大都都是直连电机或者分体式 ,胶体磨的主轴和电机直连,电机就决定了主轴的转速。

    IKN分体式胶体磨机通过皮带传送,可实现23倍的加速,同时立式直立的转轴,运转稳定性大大提高,同时转子动平衡性得到提高,间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式胶体磨机有*好的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理,还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎,超细物料的均匀分散,以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨 也可以成为反应发生的场所,比如两种液体物料反应生成固体颗粒,通过分别通入腔体,两种物料接触时被剪切成微滴,均匀混合后反应生成的粒子大小均匀,并且粒径很小。

     

    IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果

     

    为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。

    胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

           CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

         三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,*小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
     




     
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